更新時(shí)間：2024-09-03
掩膜無(wú)線測(cè)溫系統(tǒng)光掩膜又稱光罩，是微電子制造中光刻工藝所使用的圖形母版，由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形，并通過(guò)曝光將圖形轉(zhuǎn)印到產(chǎn)品基板上。在半導(dǎo)體芯片加工制造過(guò)程中,光掩膜版表面的溫度均勻性要求非常高，需要嚴(yán)格的溫度測(cè)量和控制。掩膜無(wú)線測(cè)溫系統(tǒng)用于準(zhǔn)確測(cè)量光掩膜版的溫度分布。
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掩膜無(wú)線測(cè)溫系統(tǒng)光掩膜又稱光罩，是微電子制造中光刻工藝所使用的圖形母版，由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形，并通過(guò)曝光將圖形轉(zhuǎn)印到產(chǎn)品基板上。在半導(dǎo)體芯片加工制造過(guò)程中,光掩膜版表面的溫度均勻性要求非常高，需要嚴(yán)格的溫度測(cè)量和控制。掩膜無(wú)線測(cè)溫系統(tǒng)用于準(zhǔn)確測(cè)量光掩膜版的溫度分布。
掩膜無(wú)線測(cè)溫系統(tǒng)產(chǎn)品特點(diǎn)主要技術(shù)參數(shù)
1. 體積小、精度高、采樣速度快；
2. 溫度準(zhǔn)確度高達(dá)1mK；
3. 采用無(wú)線通訊方式，響應(yīng)時(shí)間短。
掩膜無(wú)線測(cè)溫系統(tǒng)
溫度范圍 | 0℃ ~ 30℃ |
溫度準(zhǔn)確度 | 1mK（3σ） |
重復(fù)測(cè)量準(zhǔn)確度 | ＜2mK（3σ） |
傳感器響應(yīng)時(shí)間 | ≤1s |
采集頻率 | max.4Hz |
連續(xù)工作時(shí)間 | ≥100min |
傳感器數(shù)量 | 14 |
通訊方式 | Wifi |
保修期 | 1年 |
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